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2023-05-25 | |
鹏城半导体 高真空磁控溅射镀膜机 PC-002 距离角度可调 高真空磁控溅射仪是用磁控溅射的方法,制备金属、合金、化合物、半导体、陶瓷、介质复合膜及其它化学反应膜等;适用于镀制各种单 |
2023-05-25 | |
鹏城半导体 高真空电阻热蒸发镀膜机 PC-003 高真空电阻热蒸发镀膜机采用电阻热蒸发技术,它是在高真空条件下,通过加热材料的方法,在衬底上沉积各种化合物、混合物单层或多 |
2023-05-25 | |
鹏城半导体 高真空电子束蒸发镀膜机 PC-004 高真空电子束蒸发镀膜机是在高真空条件下,采用电子束轰击材料加热蒸发的方法,在衬底上镀制各种金属、氧化物、导电薄膜、光学薄 |
2023-05-25 | |
鹏城半导体 热丝CVD金刚石制备设备 PC-005 产品简介研发设计制造了热丝CVD金刚石设备,分为实验型设备和生产型设备两类。设备主要用于微米晶和纳米晶金刚石薄膜、导电金刚 |
2023-05-25 | |
鹏城半导体 PECVD设备 PC-006 产品简介PECVD设备主要用于在洁净真空环境下进行氮化硅和氧化硅的薄膜生长;采用单频或双频等离子增强型化学气相沉积技术,是沉 |
2023-05-25 | |
鹏城半导体 LPCVD设备 PC-007 小型管式LPCVD设备简介LPECVD是在低压高温的条件下,通过化学反应气相外延的方法在衬底上沉积各种功能薄膜(主要是Si3N4、SiO2及 |
2023-05-25 | |
鹏城半导体 MOCVD设备 PC-008 材料的输运采取了超纯的气路系统,源的切换和输入采用了多路组合阀进气技术。由于组合阀具有极小的死空间,使得源的残留量非常少 |
2023-05-25 |